在做檢測時,有不少關于“石墨烯檢測標準包括哪些”的問題,這里百檢網(wǎng)給大家簡單解答一下這個問題。

石墨烯檢測有哪些執(zhí)行標準？第三方檢測標準是什么？

石墨烯執(zhí)行標準包括：

1、GB/T 40066-2021《納米技術(shù) 氧化石墨烯厚度測量 原子力顯微鏡法》

2、GB/T 41068-2021《納米技術(shù) 石墨烯粉體中水溶性陰離子含量的測定 離子色譜法》

3、GB/T 43598-2023《納米技術(shù) 石墨烯粉體氧含量和碳氧比的測定 X射線光電子能譜法》

4、GB/T 43341-2023《納米技術(shù) 石墨烯的缺陷濃度測量 拉曼光譜法》

5、GB/T 40071-2021《納米技術(shù) 石墨烯相關二維材料的層數(shù)測量 光學對比度法》

石墨烯檢測國家執(zhí)行標準內(nèi)容介紹

1、GB/T 40066-2021《納米技術(shù) 氧化石墨烯厚度測量 原子力顯微鏡法》

該標準規(guī)定了使用原子力顯微鏡法（AFM）測量氧化石墨烯厚度的樣品制備、測量步驟及結(jié)果計算等。適用于片徑尺寸不小于300納米的氧化石墨烯厚度的測量，并且其他二維材料厚度的AFM測量也可以參照使用。原子力顯微鏡（AFM）是一種能夠用來研究包括絕緣體在內(nèi)的固體材料表面結(jié)構(gòu)的分析儀器。在石墨烯檢測中，AFM通過懸臂上的針尖與石墨烯表面之間的相互作用力來測量石墨烯的表面形態(tài)和厚度。當針尖與石墨烯表面接觸時，由于范德華力的作用，懸臂會產(chǎn)生微小的彎曲或偏移，這些變化會被AFM系統(tǒng)檢測并轉(zhuǎn)化為數(shù)字信號，從而得到石墨烯的表面形貌和厚度信息。

2、GB/T 41068-2021《納米技術(shù) 石墨烯粉體中水溶性陰離子含量的測定 離子色譜法》

該標準主要適用于石墨烯粉體中的水溶性氟離子(F-)、氯離子(Cl-)、亞硝酸根離子(NO2-)、溴離子(Br-)、硝酸根離子(NO3-)、硫酸根離子(SO42-)、磷酸根離子(PO43-)等陰離子含量的測定。離子色譜法是一種高效液相色譜技術(shù)，主要用于無機陰離子和陽離子的分析。在石墨烯粉體的檢測中，離子色譜法通過特定的色譜柱和淋洗液，將樣品中的陰離子分離并依次通過檢測器，實現(xiàn)對各種陰離子含量的定量測定。離子色譜法具有靈敏度高、選擇性好、分辨率高、分析速度快等優(yōu)點，能夠同時測定多種陰離子，并且適用于復雜樣品的分析。離子色譜法還具有較好的重現(xiàn)性和穩(wěn)定性，能夠滿足石墨烯粉體檢測的需求。

3、GB/T 43598-2023《納米技術(shù) 石墨烯粉體氧含量和碳氧比的測定 X射線光電子能譜法》

該標準主要適用于石墨烯粉體材料中氧含量和碳氧比的測定。X射線光電子能譜（XPS）是一種表面分析技術(shù)，可以定量分析材料表面的元素組成及其化學狀態(tài)。當X射線照射到石墨烯粉體表面時，會激發(fā)出樣品表面原子的內(nèi)層電子或價電子，被稱為光電子。測量這些光電子的能量和數(shù)量可以確定石墨烯粉體表面的元素組成和化學狀態(tài)，計算出氧含量和碳氧比。X射線光電子能譜法具有靈敏度高、分辨率高、分析速度快等優(yōu)點，能夠準確地測定石墨烯粉體中的氧含量和碳氧比。準確測定石墨烯粉體中的氧含量和碳氧比有助于評估性能、優(yōu)化生產(chǎn)工藝以及拓展應用領域。氧含量和碳氧比的變化會影響石墨烯材料的電學、熱學、力學等性能，測定這些參數(shù)可以更好地了解石墨烯材料的性能特點。

4、GB/T 43341-2023《納米技術(shù) 石墨烯的缺陷濃度測量 拉曼光譜法》

該標準適用于橫向尺寸不小于2μm、物性均勻、表面潔凈的單層石墨烯的點缺陷濃度測量。拉曼光譜法是一種基于拉曼散射效應的光譜分析技術(shù)。當激光照射到石墨烯樣品上時，會發(fā)生拉曼散射現(xiàn)象，散射光的頻率與入射光不同，這種頻率的變化與石墨烯的分子振動和轉(zhuǎn)動有關。分析拉曼光譜數(shù)據(jù)，可以獲取關于石墨烯結(jié)構(gòu)和性質(zhì)的重要信息。拉曼光譜法可以清晰地辨認出石墨烯中存在的缺陷信息。石墨烯的D帶和G帶是拉曼光譜中的兩個重要特征峰。D帶代表了石墨烯中存在的缺陷信息，而G帶則代表了石墨烯的完整結(jié)構(gòu)信息。比較D帶和G帶的強度比值，可以大致推斷出石墨烯中的缺陷濃度。準確測量石墨烯的缺陷濃度對于評估其性能、優(yōu)化生產(chǎn)工藝以及拓展應用領域具有重要意義。

5、GB/T 40071-2021《納米技術(shù) 石墨烯相關二維材料的層數(shù)測量 光學對比度法》

該標準適用于利用機械剝離法或化學氣相沉積法（CVD）制得的石墨烯薄片及石墨烯薄膜的層數(shù)測量。光學對比度法通過測量石墨烯相關二維材料在光學顯微鏡下的對比度差異來確定其層數(shù)。主要依賴于石墨烯層數(shù)的不同會導致其光學性質(zhì)的差異。該標準包括反射光譜法和光學圖片法兩種方法，分別通過測量反射光譜的變化和觀察光學圖片中的對比度差異來評估石墨烯的層數(shù)。石墨烯相關二維材料的層數(shù)是影響其性能的關鍵參數(shù)。該標準提供了快速、無損和高靈敏度的測量方法，為石墨烯相關二維材料的生產(chǎn)、應用、檢驗、流通和科研等領域提供了重要支持。